Producten

We bestudeerden een met stikstof gedoteerde nanokoolstoffilmelektrode met een stikstofconcentratie van minder dan 10,9 at% gevormd door de ongebalanceerde magnetron (UBM) sputtermethode.Het sp(3)-gehalte in de met stikstof gedoteerde UBM-sputterende nanokoolstoffilm (N-UBM-film) neemt enigszins toe met toenemende stikstofconcentratie.De stikstofhoudende grafietachtige binding neemt af en de pyridineachtige binding neemt toe met toenemende stikstofconcentratie.De N-UBM-film heeft een zeer glad oppervlak met een gemiddelde ruwheid van 0,1 tot 0,3 nm, die vrijwel onafhankelijk is van de stikstofconcentratie.De N-UBM-filmelektrode vertoont een breder potentiaalvenster (4,1 V) dan een pure-UBM-filmelektrode (3,9 V) vanwege de lichte toename van het sp(3)-gehalte.De elektrokatalytische activiteit nam toe met toenemende stikstofconcentratie, wat suggereert dat de elektroactiviteit maximaal is wanneer de stikstofconcentratie rond de 10,9 at% ligt, wat wordt bevestigd door de piekscheiding van Fe(CN)6(4-).De reductiepotentialen van waterstofperoxide (H2O2) bij de N-UBM-filmelektrode verschoven ongeveer 0,1 V en de piekstroom van H2O2 nam ongeveer 4 keer toe.